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応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会(分科会)ワークショップ(NGL2022)

概要

日時
2022年7月7日(木)~8日(金)
場所
オンライン開催
プログラム
【基調講演】
・「Semiconductor Industries: Creating the opportunities for the bright future in Japan」東 哲郎(TIA,TEL)
・「Mask Technologies for EUVL」Ted Liang(intel)
・「The present and the future of EUVL」Jos Benschop(ASML)
「国際光工学会SPIE 2022 年度ルドルフ&ヒルダ・キングスレイク光学設計賞(SPIE Rudolf and Hilda Kingslake Award in Optical Design)受賞記念講演会」渋谷眞人(東京工芸大学)
【技術セッション】7月8日(木)
光リソグラフィ&アドバンストパターニング,レジスト材料,ポスターセッション
【技術セッション】7 月9 日(金)
ナノインプリント,EB・計測・マスク技術,EUVL
参加費
(6月14日以前申し込み)主催・協賛団体会員/学生:1,500円,一般:9,000円
(6月15日以降申し込み)主催・協賛団体会員/学生:2,000円,一般:10,000円

問い合わせ:NGL研究会事務局/相良好美
TEL:090-5493-1147 FAX:048-443-4204

E-mail:ngl@jsap.or.jp
URL:http://annex.jsap.or.jp/NGL/

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