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Photomask Japan 2022 第28回国際ホトマスクシンポジウム(PMJ2022)

概要

日時
2022年4月26日(火)~28日(木)
場所
オンライン開催
プログラム
【4月26日(火)8:00~19:00】
セッション1:オープニングセッション Day1
セッション2:EUV フロム アメリカ
セッション3:スペシャルセッション – EUVマスクブランクス –
セッション4:NIL 1
セッション5:NIL 2
セッション6:高NA露光EUV
セッション7:EUVテクノロジー
【4月27日(水)8:00~19:10】
セッション8:オープニングセッション Day2-EDA-
セッション9:カーブリニアデータハンドリング
セッション10:マスク欠陥制御および解像性
セッション11:ポスターセッション
スポンサーセッション
セッション12:EUV装置
【4月28日(木)8:00~18:20】
セッション13:オープニングセッション Day3-EUVおよび業界動向-
セッション14:検査および計測
セッション15:FPD
パネルディスカッション
セッション16:計測およびマスクプロセス補正(MPC)
セッション17:描画機
参加費
(早期申込)SPIE会員:30,000円,一般:35,000円,学生:無料
参加方法
下記URLより申し込む。

問い合わせ:PMJ事務局((株)JTBコミュニケーションデザイン内)

E-mail:pmj@jtbcom.co.jp
URL:https://www.photomask-japan.org/

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