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応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会(分科会)ワークショップ(NGL2021)

概要

日時
2021年7月8日(木)~9日(金)
場所
オンライン開催(zoom)
プログラム
【基調講演】7月8日(木)
・「5G Evolution and 6G」中村武宏(NTTドコモ)
・「積層型CMOSイメージセンサを進化させるプロセス技術」岩元勇人(ソニーセミコンダクタソリューションズ)
・「EUV Lithography at IMEC(仮)」Kurt Ronse(imec)
【技術セッション】7月8日(木)
光リソグラフィ&アドバンストパターニング,レジスト材料,ポスターセッション
【技術セッション】7月9日(金)
ナノインプリント,EB・計測・マスク技術,EUVL
参加費
(6月14日以前申し込み)主催・協賛団体会員/学生:1,500円,一般:9,000円
(6月15日以降申し込み)主催・協賛団体会員/学生:2,000円,一般:10,000円
申し込み方法
下記URLから申し込む。

問い合わせ:NGL研究会事務局/相良好美
TEL:090-5493-1147 FAX:048-443-4204

E-mail:ngl@jsap.or.jp
URL:http://annex.jsap.or.jp/NGL/

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