【重要】O plus E 隔月刊化と価格改定のお知らせ

Photomask Japan 2019 第26回国際ホトマスクシンポジウム(PMJ2019)

概要

日時
2019年4月16日(火)~18日(木)
場所
パシフィコ横浜 アネックスホール(〒220-0012 神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1)
プログラム
【4月16日(火)9:00~18:00】
 セッション1:オープニングセッション第1日目(基調講演)
 セッション2:リソグラフィおよびエッチング
 セッション3:FPD
 セッション4:描画および計測技術
 セッション5:EUVL I
【4月17日(水)9:00~20:20】
 セッション6:オープニングセッション第2日目(基調講演)
 セッション7:EDAおよびMDP
 セッション8:特別セッション(MEMSおよびPUF)
 セッション9:EUVL II
 セッション10:ポスターセッション
 懇親会
【4月18日(木)9:00~18:30】
 セッション11:オープニングセッション第3日目
 セッション12:EUVL III
 セッション13:ナノインプリントリソグラフィ
 セッション14:寸法および欠陥制御
 パネルディスカッション
詳細は2月上旬に下記URLにて公開
参加費
(早期申込)SPIE会員:50,000円,一般:55,000円,学生:10,000円
申し込み方法
下記URLから申し込む。

問い合わせ:ホトマスクジャパン事務局
TEL:03-5657-0777 FAX:03-3452-8550

E-mail:pmj@jtbcom.co.jp
URL:https://www.photomask-japan.org/

掲示板 新着もっと見る

書籍案内購入はこちら

コンピュータビジョン 最先端ガイド6

著者
藤代一成,高橋成雄,竹島由里子,金谷健一,日野英逸,村田 昇,岡谷貴之,斎藤真樹
価格
1,905円(税抜)

Macleod:光学薄膜原論;第4版

著者
H. Angus Macleod(米アリゾナ大名誉教授・Thin Film Center Inc.代表)
監訳:小倉繁太郎(神戸芸術工科大教授)
価格
10,000円(税抜)

第10・光の鉛筆

著者
鶴田 匡夫(ニコン)
価格
5,500円(税抜)

Excelでできる光学設計

著者
中島 洋
価格
3,909円円(税抜)

シミュレーションで見る光学現象 第2版

著者
Masud Mansuripur
訳:辻内 順平
価格
6,000円(税抜)

レンズ光学入門

著者
渋谷 眞人
価格
4,000円(税抜)

本誌にて好評連載中

私の発言もっと見る