第25回光反応・電子用材料研究会講座「次世代の微細加工技術～更なる高密度化を目指して～」

概要

日時

2016年1月20日（水）10：00～16：55

場所

東京理科大学 森戸記念館 B1F 第一フォーラム（〒162-0825　東京都新宿区神楽坂4-2-2）

プログラム

　1．「High-χ系ブロック共重合体の材料設計と配向制御」早川晃鏡（東工大院理工･JSTさきがけ）
　2．「誘導自己組織化ブロックコポリマーを用いた分子転写法の開発」井上武治郎（東レ）
　3．「半導体プロセス向けDSA材料の実用化に向けて」永井智樹（JSR）
　4．「兵庫県立大学におけるEUVレジスト評価系の開発」渡邊健夫（兵庫県大高度産研）
　5．「ナノインプリントリソグラフィの現状と界面機能分子制御」中川 勝（東北大多元研）
　6．「モルフォ蝶の微細構造をまねた構造色製品」広瀬治子（帝人）

定員

80名

参加費

企業：14,040円，大学・官公庁：5,400円，学生：2,160円，名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シニア会員：2,160円（光反応･電子用材料研究会メンバー　企業：10,800円，大学・官公庁：4,320円）

申し込み方法

下記URLから申し込む。

締め切り

2016年1月19日（火）