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第136回微小光学研究会「材料を創る,活かす~適材適所の微小光学~」

概要

日時
2015年5月26日(火)10:00~16:50
場所
早稲田大学 西早稲田キャンパス55号館N棟1階 大会議室
(〒169-8555 東京都新宿区大久保3-4-1)
参加費
一般:4,000円,学生/シニア:1,000円(資料代含,当日支払う)
申込方法
不要(当日お越しください)

プログラム

  1. 「III-V/Si異種基板集積技術と光デバイス特性」西山伸彦(東京工業大学)
  2. 「ウェハ接合技術によるシリコン上化合物半導体量子ドットレーザ」田辺克明(東京大学)
  3. 「有機EOポリマー/ Si融合集積フォトニクスと深紫外LEDナノ光取出し技術」井上振一郎(NICT)
  4. 「【基調講演】光通信部品材料技術の現状と今後の展望」鈴木扇太(NTT)
  5. 「光通信素子における透磁率制御の可能性」雨宮智宏(東京工業大学)
  6. 「強誘電体材料の切削加工によるリッジ型光導波路」多喜川 良(九州大学)
  7. 「【特別講演】エアロゾルデポジション法による常温セラミックスコーティングと応用展開」明渡 純(産総研)
  8. 「Siフォトニクスへのグラフェン単層膜装荷と新機能発現」中島啓幾(早稲田大学)
  9. 「プラズモン・ナノレーザーによる超高感度ガス分子センシング」太田禎生(東京大学)

問い合わせ:住友電気工業(株)伝送デバイス研究所/小路 元

TEL:045-851-2174 FAX:045-852-2913
E-mail:shoji-hajime@sei.co.jp
URL:http://www.comemoc.com/

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