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第25回光反応・電子用材料研究会講座「次世代の微細加工技術~更なる高密度化を目指して~」

概要

日時
2016年1月20日(水)10:00~16:55
場所
東京理科大学 森戸記念館 B1F 第一フォーラム(〒162-0825 東京都新宿区神楽坂4-2-2)
プログラム
 1.「High-χ系ブロック共重合体の材料設計と配向制御」早川晃鏡(東工大院理工・JSTさきがけ)
 2.「誘導自己組織化ブロックコポリマーを用いた分子転写法の開発」井上武治郎(東レ)
 3.「半導体プロセス向けDSA材料の実用化に向けて」永井智樹(JSR)
 4.「兵庫県立大学におけるEUVレジスト評価系の開発」渡邊健夫(兵庫県大高度産研)
 5.「ナノインプリントリソグラフィの現状と界面機能分子制御」中川 勝(東北大多元研)
 6.「モルフォ蝶の微細構造をまねた構造色製品」広瀬治子(帝人)
定員
80名
参加費
企業:14,040円,大学・官公庁:5,400円,学生:2,160円,名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シニア会員:2,160円(光反応・電子用材料研究会メンバー 企業:10,800円,大学・官公庁:4,320円)
申し込み方法
下記URLから申し込む。
締め切り
2016年1月19日(火)

問い合わせ:公益社団法人 高分子学会

TEL:03-5540-3770 FAX:03-5540-3737

E-mail:kobunshi@spsj.or.jp

URL:https://www.spsj.or.jp/entry/annaidetail.asp?kaisaino=1093

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