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日本磁気学会第200回研究会/第51回化合物新磁性材料専門研究会「磁性材料の作製と評価手法~大型実験施設を用いた材料評価~」

概要

日時
2015年1月13日(火)13:00~17:20
1月14日(水) 9:00~12:10
場所
いばらき量子ビーム研究センター B101室
(〒319-1106 茨城県那珂郡東海村白方162-1)
参加費
研究会資料予約購読者,学生:無料,会員,協賛会員:2,000円,非会員:4,000円
資料代
1,000円(会員,協賛会員,非会員,学生)
申込方法
当日受付可能

プログラム 1月13日(火)

  1. 「はじめに? J-PARCの紹介?」大石一城(CROSS)
  2. 「磁性材料の作製(磁性材料のトレンド,放射光・中性子・ミュオンに期待すること)」庄司哲也(文科省)
  3. 「光電子顕微鏡を用いた表面界面磁性研究」小嗣真人(SPring-8)
  4. 「中性子反射率法による埋もれた界面の構造評価」武田全康(JAEA)
  5. 「ミュオンによる材料評価(薄膜・界面)」小嶋健児(KEK)
  6. 「大強度陽子加速器施設J-PARC物質・生命科学実験施設(MLF)見学ツアー(中性子ビームラインおよびミュオンビームライン)

プログラム 1月14日(水)

  1. 「放射光による材料評価」小野寛太(KEK)
  2. 「X線磁気コンプトン散乱による強磁性材料評価の新視点」櫻井吉晴(SPring-8)
  3. 「中性子小角散乱法による磁性材料評価」鈴木淳市(CROSS)
  4. 「偏極パルス中性子を用いた磁性材料内部の磁場分布の可視化」篠原武尚(JAEA)

問い合わせ:日本磁気学会事務局

TEL:03-5281-0106
URL:http://www.magnetics.jp/event/research/topical_200/

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