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「書き換え可能」な高密度光渦発生アレイを作成北海道大学,理化学研究所 研究グループ

 北海道大学,理化学研究所の研究グループは,液晶分子の形成するトポロジカル欠陥と呼ばれる特異な構造を,規則正しく広範囲にわたって自発的に並べる方法を見つけたと発表した。
 これは物質の自己組織化を利用したボトムアップ型の手法であり,液晶材料に少量のイオン性物質を添加するだけで得ることができる。そのため,高価・特殊な装置を一切必要とすることなく,マイクロスケールの複雑なパターン構造を安価・短時間で作成できるとしている。
作成された構造は電気的にON/OFFを切り替えることができるだけでなく,光マニピュレーションを併用することにより,局所的な領域における構造の書き換えを可能としている。トポロジカル欠陥は光渦と呼ばれる特殊なレーザービームを発生させるために活用されており,今後は高密度な欠陥配列は光渦など光学への応用研究が期待できる。現状では,この構造は2枚のガラス板の間で形成されているが,液晶材料を高分子として安定化(ゲル化)させることで,内部構造を保持したままフィルム化することが可能になれば,曲げたり引き延ばしたりできる光学素子として,応用研究へ役立つと期待される。

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