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超高精度平面度測定装置を開発産業技術総合研究所,(株)テクニカル

産業技術総合研究所と(株)テクニカルは共同で,超高精度平面ガラス基板を開発したと発表した。

今回開発した超高精度平面度測定装置は,測定原理と装置構成がともにとてもシンプルであるにもかかわらず,平面度測定の再現性が,口径300mmに対し±1nm以下の高精度である。

この装置を用いた平面形状の評価結果をもとに,設置時の変形やたわみの発生を抑え,ほかの装置に組み込む状態でも研磨時の平面度が損なわれず,λ/100(約6 .33nmに相当)の超高精度平面ガラス基板の開発に成功した。製造工程で用いられる平面度測定装置(市販のフィゾー干渉計)に組み込むだけで,その測定精度向上が期待される。

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