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Photomask Japan 2020 第27回国際ホトマスクシンポジウム(PMJ2020)

概要

日時
2020年4月19日(日)~21日(火)
場所
パシフィコ横浜 アネックスホール(〒220-0012 神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1)
プログラム
【4月19日(日)】17:00~19:15(予定)
Special Event“Yokohama Night Cruise”
【4月20日(月)】8:40~20:20(予定)
オープニングセッション[基調講演]
カーブリニアデータハンドリング
FPD
マスクプロセス補正(MPC)
EUVペリクル
材料およびプロセスおよび計測
機械学習
ナノインプリントリソグラフィ
ポスターセッション
懇親会
【4月21日(火)】8:40~18:50(予定)
描画技術I
描画技術II
EUVスペシャルセッション
EUV
検査技術
参加費
【早期申込】SPIE会員:45,000円(予定),一般:50,000円(予定),学生:10,000円 詳細は2月上旬に下記URLにて公開
申し込み方法
下記URLより申し込む(2月上旬開始)

お問い合わせ:ホトマスクジャパン事務局((株)JTBコミュニケーションデザイン内)
TEL:03-5657-0777

E-mail:pmj@jtbcom.co.jp
URL:https://www.photomask-japan.org/

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