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応用物理学会・次世代リソグラフィ技術研究会(分科会)ワークショップ(NGL2017)

概要

日時
2017 年7月18日(火)~19日(水)
場所
東工大大岡山キャンパス蔵前会館(〒152-0033 東京都目黒区大岡山2-12-1)
プログラム
【基調講演(7/18)】
・「オープンイノベーション(仮題)」渡邉政嘉(経済産業省)
・「システムデバイスロードマップ(仮題)」林 善宏(SDRJ/ルネサスエレクトロニス)
・「マルチビームEBマスクライタ(仮題)」Hans Loeschner(IMS Nanofabrication AG)

【技術セッション】
7/18 光リソグラフィ& MPT,DST&レジスト,ポスターセッション(軽食提供)
7/19 NIL,EB・計測・マスク技術,EUVL

お問い合わせ:応用物理学会・次世代リソグラフィ技術研究会(分科会)事務局/相良好美

〒335-0021 埼玉県戸田市新曽45

TEL:090-5493-1147 FAX:048-443-4204

E-mail:ZXF10453@nifty.com

URL:http://annex.jsap.or.jp/NGL/

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