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応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会(分科会)ワークショップ(NGL2016)

概要

日時
2016年7月7日(木)~8日(金)
場所
東工大大岡山校舎蔵前会館(〒152-0033 東京都目黒区大岡山2丁目12-1)
プログラム
【基調講演】
7日・染谷隆夫(東京大学)
  ・森本 修(キヤノン)
8日・Dr. Kurt Ronse(imec)
【技術セッション】
7日・光リソグラフィ& MRT,DSA・レジスト材料,ポスターセッション(軽食提供あり)
8日・EUVL,EB・計測・マスク技術,NIL,パネルディスカッション
参加費
【6月20日まで】主催研究会・共催団体会員および学生:3,000円,一般:12,000円
【以降の申込】主催研究会・共催団体会員および学生:4,000円,一般:15,000円
申込後,7月1日までに銀行振込。

問い合わせ:応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会(分科会)事務局/相良好美

〒335-0021 埼玉県戸田市新曽45

TEL:090-5493-1147 FAX:048-443-4204

E-mail:ZXF10453@nifty.com

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