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応用電子物性分科会研究例会「フォノンエンジニアリングの現状と展望」

概要

日時
2015年11月25日(水)13:00~17:20
場所
金沢工業大学大学院 虎ノ門キャンパス 13階会議室(〒105-0002 東京都港区愛宕1-3-4 愛宕東洋ビル)
プログラム
1.「ナノスケール熱制御によるデバイス革新の必要性」馬場寿夫(JST-CRDS)
2.「ナノ・界面構造を用いたフォノンエンジニアリング」塩見 淳一郎(東京大学)
3.「シリコンフォノニクスと応用への展望」野村政宏(東京大学生産技術研究所)
4.「無機熱電変換材料の性能向上に向けた取り組み?バルクおよび薄膜の事例」山本 淳(産業技術総合研究所)
5.「フレキシブル熱電変換素子のための有機系材料による熱およびキャリア輸送制御」中村雅一(奈良先端科学技術大学院大学)
6.「NEMS技術とフォノンエンジニアリング」水田 博(北陸先端科学技術大学院大学・サザンプトン大学)
参加費
分科会会員:2,000円,応用物理学会会員(非分科会会員):5,500円,一般:8,000円,学生:1,000円(テキスト代・消費税込)
申込方法
事前登録制,下記URLから申し込む。
https://annex.jsap.or.jp/ohden/2015/registration_2015_11.html

問い合わせ:安藤正彦/?日立製作所

E-mail:masahiko.ando.ph@hitachi.com
URL:http://annex.jsap.or.jp/ohden/

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