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光ネットワーク産業・技術研究会 第2回公開討論会「次世代光ネットワークを支える集積光デバイスの動向」

概要

日時
2015年7月29日(水)13:30~17:10
場所
産業技術総合研究所臨海副都心センター別館 11階 第1会議室
(〒135-0064 東京都江東区青海2-4-7)
参加費
当研究会会員(ご入会の場合):無料,当協会賛助会員会社:15,000円,一般:20,000円
申込方法
E-mailにて,氏名,所属,交流会の出欠を明記して申し込む。

プログラム

  1. 「フォトニックスイッチングの技術動向とその応用(仮)」高橋哲夫(NTT)
  2. 「集積化シリコン光変調器の動向と展望」小川憲介(フジクラ)
  3. 「シリコンフォトニクス多ポート光パス・スイッチ」谷澤 健(産業技術総合研究所)
  4. 「光I/Oコアの開発状況?低消費電力・超高速の小型チップサイズ光トランシーバー」中村隆宏(技術研究組合光電子融合基盤技術研究所)
講演終了後,交流会(17:15?19:15,無料)あり。
場所:タイム24ビル11階「シーガル」

問い合わせ:「光ネットワーク産業・技術研究会」事務局/中野博行

〒112-0014 東京都文京区関口1-20-10
住友江戸川橋駅前ビル7 階
TEL:03-5225-6431 FAX:03-5225-6435
E-mail:pnstudy@oitda.or.jp
URL:http://www.oitda.or.jp/main/study/pnstudy/pnstudy.html

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